WS-004 原子層堆積装置

原子層堆積装置

装置分類	高品質製膜装置群
設備ID	WS-004
設備名	原子層堆積装置
設備名(英語)	Atomic Layer Deposition Systems
型番	SUNALE R-150
メーカー名	アプライドマテリアルズジャパン(株)
設置場所	202
特徴	アルミナの成膜原子層堆積（ALD）装置
仕様	Al2O3膜を原子一層レベルで成膜可能 H2O及びO3使用可基板サイズ小片～4インチ 4”, 6”ウエハ, 及び20x20mm試料対応基板材料は原則としてダイヤモンドまたはSi (応相談）