早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
NTRCについて
ご利用方法
設備・装置
施設案内
研究事例
アクセス
リンク
HOME
装置一覧
スパッタ装置1
スパッタ装置1
装置分類
高品質製膜装置群
設備ID
設備名
スパッタ装置1
設備名(英語)
Magnetron Sputtering System 1
型番
SPC-350
メーカー名
キヤノンアネルバ(株)
設置場所
205
特徴
積層成膜 スパッタリング(スパッタ)
仕様
試料サイズ 4インチ以下 4インチ基板は6枚まで装着可能
ページトップ
Page Top