スパッタ装置2

装置分類	高品質製膜装置群
設備ID
設備名	スパッタ装置2
設備名(英語)	Magnetron Sputtering System 2
型番	SPF430H
メーカー名	キヤノンアネルバ(株)
設置場所	205
特徴	積層成膜スパッタリング（スパッタ）
仕様	試料サイズ　４インチ以下　４インチ基板は３枚まで装着可能逆スパッタによる基板クリーニング可能 Au, Ti, Pt 専用

早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター