早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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WS-015 電子ビーム描画装置

電子ビーム描画装置


装置分類 微細パターン露光描画装置群
設備ID WS-015
設備名 電子ビーム描画装置
設備名(英語) Electron Beam Lithography Exposure
型番 ELS-7500
メーカー名 (株)エリオニクス
設置場所 207
特徴 電子線描画(EB)(マスクレス、直接描画)
仕様最小線幅:10 nm 基板サイズ10mm角~4インチ 加速電圧:5~50 kV