早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
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WS-015 電子ビーム描画装置
電子ビーム描画装置
装置分類
微細パターン露光描画装置群
設備ID
WS-015
設備名
電子ビーム描画装置
設備名(英語)
Electron Beam Lithography Exposure
型番
ELS-7500
メーカー名
(株)エリオニクス
設置場所
207
特徴
電子線描画(EB)(マスクレス、直接描画)
仕様
最小線幅:10 nm 基板サイズ10mm角~4インチ 加速電圧:5~50 kV
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