早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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WS-016 レーザー直接描画装置

レーザー直接描画装置


装置分類 微細パターン露光描画装置群
設備ID WS-016
設備名 レーザー直接描画装置
設備名(英語) Advanced Maskless Aligner
型番 MLA150
メーカー名 ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社
設置場所 207
特徴 マスク作成可能 光露光(マスクレス、直接描画)
仕様(375nm Diode、SU-8対応) 最小線幅1μm 基板サイズ~6インチ