スピンコーター2

装置分類	微細パターン露光描画装置群
設備ID
設備名	スピンコーター2
設備名(英語)	Spin coater 2
型番	MS-B200
メーカー名	ミカサ(株)
設置場所	207
特徴	φ8インチシリコンウエハー膜厚分布±0.5％（レジスト膜厚1um）
仕様	最大基板サイズ：φ8インチウエハー又は150×150mm基板回転数(rpm)：20～5,000

早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター