早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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早稲田 RTA/RTO

RTA/RTO


装置分類 表面処理・接合装置群
設備ID
設備名 RTA/RTO
設備名(英語) Rapid Thermal Anealing/ Rapid Thermal Oxidation
型番 P610CP 7085
メーカー名 アドバンス理工(株)
設置場所 202
特徴 ガス雰囲気中での熱処理装置
仕様基板サイズ:20 mm角以下 使用可能ガス:O2ガス、N2ガス 最高温度:850 ℃まで Arガス、Ar+H2ガス(3%)は配管接続変更により対応可 ※真空雰囲気での熱処理はできません。