早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
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エキシマ照射装置1
エキシマ照射装置1
装置分類
表面処理・接合装置群
設備ID
設備名
エキシマ照射装置1
設備名(英語)
Excimer Irradiation equipment 1
型番
なし
メーカー名
自作(ウシオ電機(株))
設置場所
B106
特徴
真空中でエキシマ光照射、またはO2ガス雰囲気でエキシマ光照射(O3ガス)して膜表面を活性化
仕様
エキシマ光波長:172 nm 基板サイズ:小片~3インチ 基板材料:有機物を含むサンプルのみ
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