早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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エキシマ照射装置2

エキシマ照射装置2


装置分類 表面処理・接合装置群
設備ID
設備名 エキシマ照射装置2
設備名(英語) Excimer Irradiation equipment 2
型番 なし
メーカー名 自作(ウシオ電機(株))
設置場所 B106
特徴 真空中でエキシマ光照射、またはO2ガス雰囲気でエキシマ光照射(O3ガス)して膜表面を活性化
仕様エキシマ光波長:172 nm 基板サイズ:小片~3インチ 基板材料:無機物のみ