早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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スパッタ装置1

スパッタ装置1


装置分類 高品質製膜装置群
設備ID
設備名 スパッタ装置1
設備名(英語) Magnetron Sputtering System 1
型番 SPC-350
メーカー名 キヤノンアネルバ(株)
設置場所 205
特徴 積層成膜 スパッタリング(スパッタ)
仕様試料サイズ 4インチ以下 4インチ基板は6枚まで装着可能