早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター

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早稲田 CMP研磨システム(卓上用)

CMP研磨システム(卓上用)


装置分類 表面処理・接合装置群
設備ID
設備名 CMP研磨システム(卓上用)
設備名(英語) Chemical Mechanical Polishing System
型番 MA-400D
メーカー名 ムサシノ電子(株)
設置場所 212
特徴
仕様