早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
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早稲田 CMP研磨システム(卓上用)
CMP研磨システム(卓上用)
装置分類
表面処理・接合装置群
設備ID
設備名
CMP研磨システム(卓上用)
設備名(英語)
Chemical Mechanical Polishing System
型番
MA-400D
メーカー名
ムサシノ電子(株)
設置場所
212
特徴
仕様
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