早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
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早稲田 RTA/RTO
RTA/RTO
装置分類
表面処理・接合装置群
設備ID
設備名
RTA/RTO
設備名(英語)
Rapid Thermal Anealing/ Rapid Thermal Oxidation
型番
P610CP 7085
メーカー名
アドバンス理工(株)
設置場所
202
特徴
ガス雰囲気中での熱処理装置
仕様
基板サイズ:20 mm角以下 使用可能ガス:O2ガス、N2ガス 最高温度:850 ℃まで Arガス、Ar+H2ガス(3%)は配管接続変更により対応可 ※真空雰囲気での熱処理はできません。
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