WS-014 紫外線露光装置(両面マスクアライナ)

紫外線露光装置(両面マスクアライナ)

装置分類	微細パターン露光描画装置群
設備ID	WS-014
設備名	紫外線露光装置(両面マスクアライナ)
設備名(英語)	Ultraviolet Lithography
型番	MA6/BA6
メーカー名	ズース・マイクロテック(株)
設置場所	207
特徴	UV露光/G線(436 nm)、I線(365 nm) 光露光（マスクアライナ）
仕様	ズースマイクロテック社製MA6 小片～4ｲﾝﾁまで露光可能最小線幅1μm UV両面マスクアライナー