早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター
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WS-016 レーザー直接描画装置
レーザー直接描画装置
装置分類
微細パターン露光描画装置群
設備ID
WS-016
設備名
レーザー直接描画装置
設備名(英語)
Advanced Maskless Aligner
型番
MLA150
メーカー名
ハイデルベルグ・インストルメンツ・ミクロテクニック社
設置場所
207
特徴
マスク作成可能 光露光(マスクレス、直接描画)
仕様
(375nm Diode、SU-8対応) 最小線幅1μm 基板サイズ~6インチ
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