WS-030 プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

装置分類	高品質製膜装置群
設備ID	WS-030
設備名	プラズマCVD装置
設備名(英語)	TEOS-CVD
型番	PD-220
メーカー名	サムコ(株)
設置場所	202
特徴	SiO2成膜のみ可能化学蒸着（CVD）装置
仕様	プラズマCVDの原理による成膜高いカバレッジ成形基板サイズ６インチ以下面内分布　5%以内(仕様) 標準条件での基板温度300℃ 基板材料は原則としてSi (応相談）