XeF2エッチング装置

装置分類	ドライエッチング装置群
設備ID
設備名	XeF2エッチング装置
設備名(英語)	Xenon difluoride (XeF2) Etching Systems
型番	なし
メーカー名	自作（ハシノテック）
設置場所	202
特徴	XeF2ガスによるSiのみのガスエッチング装置
仕様	Siのみエッチング可能基板サイズ：3インチ以下

早稲田大学ナノテクノロジーリサーチセンター