設備写真	設備分類	設備ID	設備名	設備名(英語)	型番	メーカー名	設置場所	特徴
	元素分析装置	WS-024	誘導結合プラズマ質量分析装置	Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry	iCAP Qc ICP-MS	サーモフィッシャーサイエンティフィック(株)	209F	溶液の質量分析 誘導結合プラズマ質量分析
	表面観察・分析装置群	WS-025	フーリエ変換赤外分光計	Fourier Transform Infrared Spectroscopy	FT/IR-6200	日本分光(株)	218	FTIR 赤外分光
	表面観察・分析装置群	WS-026	高性能分光エリプソメータ	Spectroscopic Ellipsometry	UVISEL ER AGMS iHR320	(株)堀場製作所	202	分光エリプソ エリプソメーター
	基板加工装置群	WS-027	ダイシングソー	Dicing Saw	DAD321	(株)ディスコ	214(B)	Si、ガラス切断用 ダイシング、スクライバ
	デバイス電気特性測定装置群	WS-029	電気計測装置群	Electrical Measuring Device Group	DSO X-3054TN9322CZM2371	キーサイト・テクノロジー(株)(株)エヌエフ回路設計ブロック	B103	各種電気特性測定機器（小型装置）あり 電気特性評価
	高品質製膜装置群	WS-030	プラズマCVD装置	TEOS-CVD	PD-220	サムコ(株)	202	SiO2成膜のみ可能 化学蒸着（CVD）装置
	バイオサンプル用装置群	WS-031	共焦点レーザー走査型顕微鏡	Confocal Laser Scanning Microscopy: CLSM	FLUOVIEW FV3000RS	(株)エビデント	B120	高感度に多波長同時イメージング可能 共焦点顕微鏡、高感度多波長蛍光イメージング 共焦点レーザー走査型顕微鏡 パルス／CW光検出磁気共鳴計測（ダイヤモンド中のNVセンターの室温量子計測）
	元素分析装置	WS-032	グロー放電分光分析装置	Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry	GDA750	(株)堀場製作所	215(B)
	ドライエッチング装置群		XeF2エッチング装置	Xenon difluoride (XeF2) Etching Systems	なし	自作（ハシノテック）	202	XeF2ガスによるSiのみのガスエッチング装置
	観察用試料処理装置群		イオンミリング	Ion Milling System	IM4000	(株) 日立ハイテク	216
	ドライエッチング装置群		イオンミリング装置	Ion Milling System	IMR-3-8	(株)日立製作所	B106	Arイオンミリングにより材料をエッチングする装置
	表面処理・接合装置群		エキシマ照射装置1	Excimer Irradiation equipment 1	なし	自作（ウシオ電機(株)）	B106	真空中でエキシマ光照射、またはO2ガス雰囲気でエキシマ光照射（O3ガス）して膜表面を活性化
	表面処理・接合装置群		エキシマ照射装置2	Excimer Irradiation equipment 2	なし	自作（ウシオ電機(株)）	B106	真空中でエキシマ光照射、またはO2ガス雰囲気でエキシマ光照射（O3ガス）して膜表面を活性化
	表面処理・接合装置群		オゾンクリーナー	UV Ozone Cleaner	UV253	フィルジェン(株)	202	有機汚染物質除去装置
	高品質製膜装置群		スパッタ装置1	Magnetron Sputtering System 1	SPC-350	キヤノンアネルバ(株)	205	積層成膜 スパッタリング（スパッタ）
	高品質製膜装置群		スパッタ装置2	Magnetron Sputtering System 2	SPF430H	キヤノンアネルバ(株)	205	積層成膜 スパッタリング（スパッタ）
	微細パターン露光描画装置群		スピンコーター1	Spin coater 1	MS-B150	ミカサ(株)	207	φ6インチシリコンウエハー 膜厚分布±0.6％（レジスト膜厚1um）
	微細パターン露光描画装置群		スピンコーター2	Spin coater 2	MS-B200	ミカサ(株)	207	φ8インチシリコンウエハー 膜厚分布±0.5％（レジスト膜厚1um）
	表面処理・接合装置群		プラズマアッシャー1	Plasma System 1	LF-5	Mercator Control System	212
	表面処理・接合装置群		プラズマアッシャー2	Plasma System 2	PR301	ヤマト科学(株)	212